半导体

参与化学反应：在半导体制造过程中，气体作为反应气体参与到化学反应中，例如氢气、氧气等，这些气体可以直接参与到半导体材料的合成和改性过程中。此外，特殊气体如硅烷、锗烷、磷烷等，这些气体主要用于集成电路制造中的反应气体，涉及高纯多晶硅的制作、二氧化硅薄膜的沉积、氮化硅薄膜的沉积等多个方面。
温度控制：在半导体外延生长过程中，气体也扮演着重要的角色。例如，氢和氯硅烷等气体源用于硅外延生长，其中氢气常用于降低生长温度，确保外延层的质量和性能。
保护作用：在高温烘烤或清洗过程中，氮气、氩气等惰性气体被用作保护气体，防止半导体材料被氧化或其他形式的损害。这些气体能够提供一个惰性环境，保护半导体材料在处理过程中不受外界环境的影响。